提高反应设备清洁效率的微导纳米申请反应设备、半导体镀膜设备及清洁方法

江苏微导纳米科技股份有限公司于 2024 年 3 月申请了一项名为“反应设备、半导体镀膜设备及反应设备清洁方法”的专利（公开号：CN202410302348.X）。

专利摘要指出，本发明提供了一种反应设备和半导体镀膜设备，以及一种用于反应设备的清洁方法。该反应设备包括：反应室，其中形成反应腔；主抽管路，与反应腔相连且设有主阀门；主进气支路，与反应腔相连；清洁进气支路，与反应腔和/或主抽管路相连。

本发明的反应设备允许工艺气体和激发的清洁气体通过不同的管路进入反应腔，无需全部通过主进气支路进入。工艺气体可以经过主进气支路进入，而反应腔中对应主进气支路的部分可设置喷淋组件，以均匀分布工艺气体。激发的清洁气体可以通过清洁进气支路引导到目标位置，无需经过喷淋组件。这样可以避免自由基经过喷淋组件而发生碰撞失活，从而提高反应设备的整体清洁效率。